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Sensofar S neox 白光干涉仪:精密光学元件形貌与尺寸计量方案

更新时间:2026-10-12点击次数:33

Sensofar S neox 白光干涉仪凭借纳米级垂直分辨率与多模式光学系统,在精密光学元件制造中实现了面形、粗糙度及微结构的高效计量。该方案覆盖透镜至衍射元件检测,支持镀膜台阶测量与自动化产线应用,为工艺优化提供数据支撑。


白光干涉技术在平面、球面及非球面光学元件的表面粗糙度与面形误差测量中具有显著优势。S neox 基于白光干涉的垂直扫描原理,能够重建纳米乃至亚纳米级别的表面微观轮廓。这对于评价光学表面的光洁度,以及识别抛光过程中可能产生的划痕、麻点、印迹等微观缺陷具有实际帮助。与单独使用轮廓仪或原子力显微镜相比,白光干涉仪在测量速度与视场范围之间取得了一定的平衡。


针对微结构光学元件(如微透镜阵列、衍射光栅、菲涅尔透镜等)制造中对结构单元周期、深度及轮廓形状的高尺寸控制要求,S neox 的白光干涉模式能够快速获取整个微结构区域的三维形貌,精确测量每个微透镜的矢高、基底厚度,或光栅槽的深度与侧壁角,从而评估制造的均匀性与一致性。


对于镀膜后的光学元件,白光干涉仪还可用于测量膜层的厚度均匀性(通过测量台阶)以及检查膜层表面可能出现的结节、龟裂等缺陷。S neox 系统集成的多种光学模式,使其在面对高反射金属膜或透明增透膜时,可根据实际情况选择适宜的测量技术,以获得可靠的测量数据。


系统的自动化功能,如自动对焦、多区域测量和配方化操作,有助于在产线上对批量光学元件进行快速、重复性的检测。测量软件生成的三维形貌图、二维截面曲线以及统计分析报告,可直观展示元件的表面质量,为工艺改进和质量判定提供数据支持。


因此,在追求更高光学性能的产业背景下,采用如 Sensofar S neox 白光干涉仪进行精密光学元件的形貌与尺寸计量,已成为保障元件最终性能的重要环节之一。

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