【简介】LongScope离子束溅射镀膜仪
HSC120离子束刻蚀镀膜仪，配备一把鞍型场离子枪，用于对样品进行精细化镀膜。
该产品设置有设计的金字塔型靶材托，可以同时安装四块不同的靶材且互相不干扰，可以同时支持金属靶材和碳靶材，无需用户换用不同的机器或频繁更换靶材，即可完成高效镀膜或复合镀膜。

LongScope离子束溅射镀膜仪

HSC120离子束刻蚀镀膜仪，配备一把鞍型场离子枪，用于对样品进行精细化镀膜。

该产品设置有设计的金字塔型靶材托，可以同时安装四块不同的靶材且互相不干扰，可以同时支持金属靶材和碳靶材，无需用户换用不同的机器或频繁更换靶材，即可完成高效镀膜或复合镀膜。

>>>高质量离子束刻蚀镀膜,膜颗粒小,膜层薄,不改变样品表面形貌

>>>保护多靶材头,可以同时放入多种不同材质的靶材,且方便切换

>>>无需更换镀膜头,同时兼容金属靶材和碳靶材

>>>样品台可倾转、可连续旋转、进一步提高了镀膜的均一性

LongScope离子束溅射镀膜仪是一款专为高活性、高敏感样品设计的离子溅射镀膜系统，通过多项创新设计，有效解决了传统镀膜工艺在材料损伤与膜层质量方面的痛点。设备配备可调离子源，能够根据不同的样品特性和工况需求灵活调节离子束能量与束流密度，在确保镀膜质量的同时，能够避免对热敏性、辐照敏感性样品造成额外损伤，为高分子材料、生物组织及纳米器件等脆弱样品的电镜制样提供了安全可靠的镀膜环境。

在镀膜效果方面，设备内置的旋转和倾斜角度可调样品台，可使样品在镀膜过程中以多角度均匀受镀，有效消除了传统固定式镀膜方式中常见的阴影效应与膜厚不均现象，确保在复杂形貌表面也能获得厚度一致、致密度高的优质薄膜。同时，设备支持多达4种靶材的快速切换，用户无需更换设备即可在同一真空腔内顺序完成不同材质的溅射镀膜，极大拓展了设备的应用灵活性与实验通量。

在操作体验与人机交互方面，设备搭载大尺寸电容触摸屏，界面直观、响应灵敏，用户可便捷地设定与监控镀膜参数，实时掌握工艺状态。大窗口目视观察窗配合腔体内部的快速破真空功能，让操作者能够在不破坏样品的前提下清晰观察腔内运行状况，快速取放样品，显著提升了实验效率与操作便利性。整机设计充分兼顾了高精度制膜需求与日常使用的便捷性，是科研与检测实验室实现高质量离子溅射镀膜的理想工具。