【简介】Fischione 精密离子减薄仪1051 TEM Mill作为采用技术制造的精密离子研磨及抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备能力，能够为透射电镜制备满足电子束穿透的大面积薄区样品，同时具备紧凑、精确以及高稳定性的优点。

TEM Mill作为采用技术制造的精密离子研磨及抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备能力，能够为透射电镜制备满足电子束穿透的大面积薄区样品，同时具备紧凑、精确以及高稳定性的优点。

离子抛光技术简介

离子抛光技术通常采用惰性气体氩，通过将氩气离子化后，在电场加速作用下轰击到样品表面，利用动量转移的方式进行可控速率条件下，物理溅射轰击的方式对样品表面进行精细抛光处理，满足扫描电镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求。

性能特点

·两支独立可调电磁聚焦离子枪

·同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复)

·超宽加速电压范围：100eV到10kV，不同加速电压下，离子束束斑均保持最细束斑状态

·每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测

·采用可调节10英寸触屏控制系统，人机界面友好，操作简洁

·自动独立气源控制

·减薄角度范围：-15°到+10°连续可调

·样品载台X-Y可调，可根据需要调整样品减薄位置

·具备原位实时观察及记录减薄过程功能

·样品可360°连续旋转或摇摆，离子束自动避让样品夹

·可通过时间、温度以及透光性自动停止

·可选液氮冷台配置，去除热效应对样品的损伤

·可选真空或惰性气体转移装置，隔绝样品与水氧接触

离子源   

样品台   

液氮冷台  

成像结果